Med ICP-OES instrumentet PlasmaQuant 9100 fra Analytik Jena oppdager du overlegen analytisk ytelse, applikasjonsflekibilitet, robusthet og pålitelighet.
Detaljer som avgjør.
- Maksimal pålitelighet – høy analytisk ytelse takket være høyoppløselig optikk
- Brukervennlig funksjonalitet – allsidig bruksområde
- Fleksibel plasmaobservasjon – optimalisert avlesning av plasma uten kompromisser
- Økt produktivitet – robust plasma for analyse av de mest krevende prøvestoffen
Sikre resultatet av dine mest varierte analyser med enkelhet innenfor ICP-OES
Høyoppløselig optikk og høy matrisetoleranse garanterer effektive og lave nivåer i analyse av geologiske prøver, i metaller med høy renhet, i kjemiske og petrokjemiske prøver samt jordprøver og industrielt avløpsvann. I sporelementanalyser av komplekse materialer er det prøvematrisen som dikterer instrumentets behov.
For vanskelige matriser, eller matriser med høye konsentrasjoner, kreves høy plasmaytelse. For lav deteksjonsgrense kreves en unik spektrometerdesign. Med høyoppløselig ICP-OES-teknologi fra Analytik Jena er dine analytiske resultater sikret.
Resultater du kan stole på
Ved bruk at ICP-OES er plasmatytelsen helt avgjørende i sporanalyser i sterkt konsentrerte prøver og varierende prøvematriser. Dra fordel av det bredeste arbeidsområdet og minimale behov for prøveforberedelse – og oppnå forbedret presisjon, produktivitet og brukervennlighet
- Perfekt og effektiv for drift hele døgnet.
- Fleksible plasmaobservasjonssoner
- Forstyrrelsesfrie utslippsledninger
- Klar for analyse innen 15 minutter
Høyoppløselig optikk garanterer uovertruffet følsomhet, nøyaktighet og presisjon i alle prøvematriser. I kombinasjon med det fleksible plasmaobservasjonssystemet Dual View PLUS kan du bestemme både spor og makroelementer i en og samme analyse.
Den teknisk avanserte fakkeldesignet i kombinasjon med RF-generatoren, sikrer stabile plasmaforhold for alle prøver – matriser og for raskt varierende prøvematriser.
Har du noen spørsmål om ICP-OES? Nøl ikke med å kontakte oss!